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J-GLOBAL ID：201102226769954528   整理番号：11A0710621

PECVD法でベンゼンとヘキサメチルジシロキサンから蒸着したプラズマ重合薄膜の合成とキャラクタリゼーション

Synthesis and Characterization of Plasma Polymerized Thin Films Deposited From Benzene and Hexamethyldisiloxane Using (PECVD) Method

著者 (3件)： ABOURAYANA H. ,  ZREIBA N. ,  ELAMIN A.
資料名： Materials Science & Technology Conference and Exhibition  (Materials Science & Technology Conference and Exhibition)
巻： 2010 Vol.1  ページ： 593-604  発行年： 2010年 
JST資料番号： E0697C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ベンゼンもしくはヘキサメチルジシロキサンと,アルゴンとの混合ガスから,プラズマ増強CVDで,Alもしくはガラス基板に重合薄膜を合成し,赤外線分光,接触角測定,3.5wt% NaCl溶液中での動電位法分極測定,表面モルホロジーの観察などを行い,アルゴンガスの混合量,高周波の出力などの影響を検討した。ベンゼンのみの場合は,付着性のない,粉末様の被膜が生成した。ベンゼン/Arの混合比を増すと,接触角は増加し,表面粗さは低下した。ベンゼンを使用した場合の最適ベンゼン/Ar比は2/8であった。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  アルゴン ,  混合気体 ,  *プラズマ重合 ,  基板 ,  アルミニウム ,  ガラス ,  *プラスチック被覆 ,  *耐食性 ,  赤外吸収スペクトル ,  接触角 ,  電気化学的分極 ,  分子構造 ,  表面性状 ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： 化学構造

分類 (1件)： プラスチック被覆  (WC08060U)

物質索引 (2件)： ヘキサメチルジシロキサン ,  ベンゼン

タイトルに関連する用語 (7件)： PECVD ,  ベンゼン ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  蒸着 ,  プラズマ重合 ,  薄膜 ,  キャラクタリゼーション