文献

J-GLOBAL ID：201102227583490773   整理番号：11A1222023

イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善

Adhesion Improvement of Fluoropolymer Thin Films by Ion-Assisted Vapor Deposition Polymerization

著者 (4件)： 泉田和夫 (東京農工大 大学院工学府) ,  松田剛 (東京農工大 大学院工学府) ,  田中邦明 (東京農工大 大学院工学府) ,  臼井博明 (東京農工大 大学院工学府)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 111  号： 110(OME2011 22-33)  ページ： 41-46  発行年： 2011年06月23日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した。イオン照射によって基材表面をクリーニングすると同時にその表面を平滑化,活性化することにより膜/基板界面を改質し,密着性に優れた均質なフッ素系高分子膜を形成できる可能性が示された。スピンコート法による塗布型フッ素系高分子膜と比較した結果,イオンアシストを用いることで密着性の優れた薄膜が得られることを実証した。またイオン照射条件を制御することにより膜物性が変化し,低照射エネルギーで製膜することでフッ素系高分子固有の性質を持つ低表面エネルギーかつ低屈折率の薄膜が得られた。得られた膜は屈折率が低い特性を活かし,反射防止膜として応用可能である。(著者抄録)

シソーラス用語： イオン照射 ,  *イオンビーム蒸着 ,  *フッ素化重合体 ,  蒸着重合 ,  *密着性 ,  *表面改質 ,  *反射防止膜 ,  高分子膜 ,  保護膜 ,  屈折率 ,  表面エネルギー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン ,  アシスト ,  蒸着 ,  フッ素 ,  薄膜 ,  密着性