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J-GLOBAL ID:201102228066830056   整理番号:11A0124920

ギ酸存在下でのポリアニリン-パラジウム触媒系の酸化還元挙動

Redox behaviour of polyaniline-palladium catalytic system in the presence of formic acid
著者 (5件):
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巻: 160  号: 23-24  ページ: 2546-2551  発行年: 2010年12月 
JST資料番号: C0123B  ISSN: 0379-6779  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ギ酸存在下で化学的に取り込んだパラジウム粒子を含有するポリアニリン(PANI)膜の酸化還元挙動を研究した。二種類の型のPANI-Pdハイブリッドを調製した:PANI-PdHAとPANI-PdLAであり,高分子マトリックスへのパラジウムの取り込みで用いたPdCl2溶液の酸性度の違いにより異なる。UV-vis分光法,X線回折(XRD),X線光電子分光(XPS)および走査電子顕微鏡(SEM)を用いて,ポリアニリン-パラジウムハイブリッド上でのギ酸の分解を含む製法の特性を試験した。特に,両方の膜のUV-vis変化は,時間の関数としてその場(1MのHCOOH水溶液中で)に従った。むしろ予想に反して,パラジウム粒子の存在下で,ポリアニリン膜の酸化還元特性が著しく変化することがわかった。Pd0の粒子は,ギ酸の同時分解を伴いながら,最も酸化した状態および準酸化状態から最も還元した状態まで,PANIの還元を促進した。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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高分子固体の物理的性質  ,  酸化,還元 
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