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J-GLOBAL ID：201102228239457968   整理番号：11A1596558

多孔質テレフタル酸ジルコニウムUiO-68(Zr)の官能化による天然ガスのアップグレード 計算機探索

Functionalizing porous zirconium terephthalate UiO-66(Zr) for natural gas upgrading: a computational exploration

著者 (7件)： YANG Qingyuan (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  YANG Qingyuan (Inst. Charles Gerhardt Montpellier, CNRS, Montpellier, FRA) ,  WIERSUM Andrew D. (Lab. Chimie Provence, CNRS, Marseille, FRA) ,  LLEWELLYN Philip L. (Lab. Chimie Provence, CNRS, Marseille, FRA) ,  GUILLERM Vincent (Univ. de Versailles St Quentin en Yvelines, Versailles, FRA) ,  SERRE Christian (Univ. de Versailles St Quentin en Yvelines, Versailles, FRA) ,  MAURIN Guillaume (Inst. Charles Gerhardt Montpellier, CNRS, Montpellier, FRA)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 47  号： 34  ページ： 9603-9605  発行年： 2011年09月14日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化炭素/メタンのガス分離を目的として,一連の置換テレフタル酸を配位子とするジルコニウム金属-有機骨格UiO-68(Zr)-X_nのCO₂およびCH₄吸着エンタルピーおよび吸着容積を密度汎関数法により理論計算した。官能化により二酸化炭素の吸着が促進され,CO₂/CH₄選択比sの序列SO₃H>CO₂H>NH₂>OH>NO₂>Br>(CF₃)₂を求めた。カルボキシル基(s=23.2)およびスルホン酸基(s=22.6)が高い選択率,吸着容積および中庸の吸着エンタルピーにより有望と結論した。

シソーラス用語： *ジルコニウム錯体 ,  多孔質体 ,  官能化 ,  天然ガス ,  *二酸化炭素 ,  *ガス分離 ,  *置換基効果 ,  吸着熱 ,  体積 ,  密度汎関数法 ,  選択性 ,  芳香族カルボン酸 ,  ジカルボン酸 ,  アルカン ,  カルボキシ基 ,  *配位重合体【樹脂】 ,  スルホ基 ,  *MOF【配位高分子】
準シソーラス用語： *配位重合体 ,  カルボキシル基 ,  スルホン酸基 ,  *金属-有機骨格 ,  容積

分類 (6件)： 第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  分子の電子構造  (BH05010Q) ,  分子・遺伝情報処理  (JE15040B) ,  気体燃料の精製  (YE02050B)

物質索引 (4件)： 1,2,4-ベンゼントリカルボン酸 ,  テレフタル酸 ,  メタン ,  2-スルホテレフタル酸

タイトルに関連する用語 (9件)： 多孔質 ,  テレフタル酸 ,  ジルコニウム ,  Zr ,  官能化 ,  天然ガス ,  アップグレード ,  計算機 ,  探索