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J-GLOBAL ID：201102228909391580   整理番号：11A0279439

エチレン基と組み合わさった多孔質シリカにおけるポロゲン濃度とその脱着温度依存性

Porogen concentration and its desorbing temperature dependence in porous silica film incorporated with ethylene groups

著者 (3件)： UCHIDA Y ,  ITO Y ,  ISHIDA K
資料名： MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
巻： 118  号： 1-3  ページ： 250-252  発行年： 2005年 
JST資料番号： O4522A  ISSN： 0921-5107  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： エチレン ,  多孔質シリカ ,  ポロゲン ,  脱着 ,  温度依存性