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J-GLOBAL ID：201102230872301661   整理番号：11A0436808

低圧MO-CVDによってSiウエハーに調製された高品質ZnO膜

High-quality ZnO films prepared on Si wafers by low-pressure MO-CVD

著者 (6件)： HAGA K ,  SUZUKI T ,  KASHIWABA Y ,  WATANABE H ,  ZHANG Bp ,  SEGAWA Y
資料名： THIN SOLID FILMS
巻： 433  号： 1-2  ページ： 131-134  発行年： 2003年 
JST資料番号： O6387A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低圧 ,  Mo ,  CVD ,  Siウエハー ,  調製 ,  高品質 ,  ZnO