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J-GLOBAL ID:201102232880595600   整理番号:11A0097988

非晶質SiO2ガラスの近傍におけるエキシマおよびNd:YAGレーザ誘起SF6分解

Excimer and Nd:YAG laser-induced SF6 decomposition at the vicinity of amorphous SiO2 glass
著者 (2件):
資料名:
巻: 101  号:ページ: 611-616  発行年: 2010年11月 
JST資料番号: E0501B  ISSN: 0946-2171  CODEN: APBOEM  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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著者らは石英ガラスの近傍のSF6ガスにエキシマレーザを照射しときの分解を研究している。今回はArFエキシマレーザとQスイッチングNd-YAGレーザを使用して,異なる波長によるSH6の分解効果を調べた。その結果,エキシマレーザ照射ではSiF4ガスとS2F10クラスタが同時に生成されるが,YAGレーザでは生成されないことが分かった。レーザ分光法とFTIRによるガス分析の結果も示した。また,エネルギー分散蛍光X線分析と波長分散X線マッピングを行い,ガラス表面へのフッ素の侵入状況を調べた。
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分類 (2件):
分類
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レーザ照射・損傷  ,  光化学反応 

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