文献

J-GLOBAL ID：201102232914439688   整理番号：11A0095008

導電性高分子微細構造のためのリールツーリール両立パターン形成技術

Reel-to-Reel Compatible Patterning Technique for Conductive Polymer Microstructures

著者 (3件)： KHUMPUANG S. (AIST) ,  MIYAKE K. (AIST) ,  ITOH T. (AIST, Ibaraki, JPN)
資料名： センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム(CD-ROM)  (センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム論文集(CD-ROM))
巻： 27th  ページ： ROMBUNNO.B1-2  発行年： 2010年10月14日 
JST資料番号： X0768B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *導電性高分子 ,  微細構造 ,  両立性 ,  基板 ,  *パターン形成 ,  繊維 ,  ポリエチレンジオキシチオフェン ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  *MEMS
準シソーラス用語： *マイクロパターン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 導電性高分子 ,  微細構造 ,  パターン形成