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J-GLOBAL ID：201102233617221564   整理番号：11A1481290

Si(001)表面上の固相エピタキシーによって成長する極薄けい化鉄膜の研究

Study of ultrathin iron silicide films grown by solid phase epitaxy on the Si(001) surface

著者 (8件)： BALASHEV V. V. (Russian Acad. of Sciences, Inst. for Automation and Control Processes, Far Eastern Branch, ul. Radio 5, 690041 ...) ,  BALASHEV V. V. (Far Eastern National Univ., Inst. of Physics and Information Technol., ul. Sukhanova 8, 690950, Vladivostok, RUS) ,  KOROBTSOV V. V. (Russian Acad. of Sciences, Inst. for Automation and Control Processes, Far Eastern Branch, ul. Radio 5, 690041 ...) ,  KOROBTSOV V. V. (Far Eastern National Univ., Inst. of Physics and Information Technol., ul. Sukhanova 8, 690950, Vladivostok, RUS) ,  PISARENKO T. A. (Russian Acad. of Sciences, Inst. for Automation and Control Processes, Far Eastern Branch, ul. Radio 5, 690041 ...) ,  PISARENKO T. A. (Far Eastern National Univ., Inst. of Physics and Information Technol., ul. Sukhanova 8, 690950, Vladivostok, RUS) ,  CHUSOVITIN E. A. (Russian Acad. of Sciences, Inst. for Automation and Control Processes, Far Eastern Branch, ul. Radio 5, 690041 ...) ,  GALKIN K. N. (Russian Acad. of Sciences, Inst. for Automation and Control Processes, Far Eastern Branch, ul. Radio 5, 690041 ...)
資料名： Physics of the Solid State  (Physics of the Solid State)
巻： 52  号： 2  ページ： 397-403  発行年： 2010年02月 
JST資料番号： W0823A  ISSN： 1063-7834  CODEN： PSOSED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  固相エピタキシー ,  成長 ,  極 ,  けい化鉄 ,  研究