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J-GLOBAL ID：201102233922703331   整理番号：11A0720582

In situ及び高温表面増強ラマン散乱測定における,銀の安定性を向上させるための,原子層堆積の使用

Use of atomic layer deposition to improve the stability of silver substrates for in situ, high-temperature SERS measurements

著者 (4件)： JOHN Joshy F. (Univ. Tennessee, TN, USA) ,  MAHURIN Shannon (Oak Ridge National Lab., TN, USA) ,  DAI Sheng (Oak Ridge National Lab., TN, USA) ,  SEPANIAK Michael J. (Univ. Tennessee, TN, USA)
資料名： Journal of Raman Spectroscopy  (Journal of Raman Spectroscopy)
巻： 41  号： 1  ページ： 4-11  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： D0305C  ISSN： 0377-0486  CODEN： JRSPAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面増強ラマン散乱 ,  銀 ,  安定性 ,  原子層堆積