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J-GLOBAL ID：201102234311180569   整理番号：11A1859881

単原子層交互積層法により作製したL1₀型FeNi薄膜の構造と磁気特性の関係

著者 (8件)： 小嶋隆幸 (東北大 大学院) ,  小嶋隆幸 (東北大 工) ,  小嶋隆幸 (東北大 金属材料研) ,  水口将輝 (東北大 金属材料研) ,  小金澤智之 (SPring-8) ,  大坂恵一 (SPring-8) ,  小嗣真人 (SPring-8) ,  高梨弘毅 (東北大 金属材料研)
資料名： 日本金属学会講演概要(CD-ROM)  (Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
巻： 149th  ページ： ROMBUNNO.101  発行年： 2011年10月20日 
JST資料番号： S0988B  ISSN： 2433-3093  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *インタリーブ ,  *多層膜 ,  垂直磁化 ,  規則度 ,  蒸着膜 ,  磁気異方性 ,  ニッケル含有合金 ,  *鉄合金 ,  *金属薄膜 ,  軸方向 ,  *磁気的性質 ,  *合金薄膜 ,  磁化容易軸
準シソーラス用語： *交互積層 ,  *積層膜 ,  磁気特性

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 単原子層 ,  交互積層 ,  作製 ,  薄膜 ,  磁気特性