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J-GLOBAL ID:201102234814361013   整理番号:11A1190409

電子ビーム励起希ガスエキサイマ光源(EBEL)を用いる単一光子イオン化(SPI)飛行時間質量分析(TOF-MS)に結合したガスクロマトグラフィーを用いる種々の有機分子の光イオン化断面積の決定: 分子構造の影響及び分析的意義

Determination of Photoionization Cross-Sections of Different Organic Molecules Using Gas Chromatography Coupled to Single-Photon Ionization (SPI) Time-of-Flight Mass Spectrometry (TOF-MS) with an Electron-Beam-Pumped Rare Gas Excimer Light Source (EBEL): Influence of Molecular Structure and Analytical Implications
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巻: 65  号:ページ: 806-816  発行年: 2011年07月 
JST資料番号: A0429A  ISSN: 0003-7028  CODEN: APSPA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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単一光子イオン化(SPI)飛行時間質量分析(TOF-MS)とガスクロマトグラフィーを組み合わせた光イオン化断面積の迅速で信頼できる決定法を提示した。アルゴン充填電子ビームで励起した希ガスエキサイマ光源(EBEL)を利用して69種類の有機物質に対する光イオン化効率(PIE)データを取得した。ベンゼン置換体の種類と絶対光イオン化断面積の直接的な相関性について考察した。文献に報告された20種類の有機物質(ベンズアルデヒド,ベンジルアルコール,トルエン,スチレン,o-キシレン,1-メチルナフタレン,2,5-ジメチルフラン,n-ノナン,n-ペンタデカンなど)の光イオン化断面積は本研究の測定データとよく一致した。
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分類 (2件):
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分子と光子の相互作用  ,  光化学反応,ラジカル反応 
物質索引 (15件):
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