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J-GLOBAL ID：201102236880541173   整理番号：11A1143885

水素化物発生-原子蛍光分析による高純度インジウム中のヒ素とアンチモンの定量

Determination of arsenic and antimony in high purity indium by hydride generation-atomic fluorescence spectrometry

著者 (5件)： ZHANG Dian-kai (Beijing General Res. Inst. for Nonferrous Metals, Beijing) ,  ZHENG Yong-zhang (Beijing General Res. Inst. for Nonferrous Metals, Beijing) ,  ZANG Mu-wen (Beijing General Res. Inst. for Nonferrous Metals, Beijing) ,  LIU Ying (Beijing General Res. Inst. for Nonferrous Metals, Beijing) ,  TONG Jian (Beijing General Res. Inst. for Nonferrous Metals, Beijing)
資料名： Fenxi Shiyanshi  (Fenxi Shiyanshi)
巻： 29  号： 3  ページ： 30-33  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2396A  ISSN： 1000-0720  CODEN： FENSE4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高純度インジウム中のヒ素およびアンチモンの水素化物発生原子蛍光分析(HG-AFS)による分析法を提案した。最適の実験的パラメータ,ヒ素およびアンチモンの定量に及ぼす共存する元素の影響,方法の確度および正確さを,研究した。ヒ素およびアンチモンの検出限界は,それぞれ,0.18ng/mlおよび0.28ng/ml.であった。ヒ素およびアンチモンの定量限界は,それぞれ,1.2×10(-5)および1.9×10(-5)であった。回収率は97.4%~103%であり,ヒ素およびアンチモンのRSD(n=5)は,それぞれ,1.9%および1.7%であった。この方法を,高純度インジウム中の痕跡量ヒ素およびアンチモンの分析に応用できた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *原子蛍光分析 ,  純度 ,  インジウム ,  ヒ素 ,  アンチモン ,  回収率 ,  定量限界 ,  パラメータ
準シソーラス用語： 高純度 ,  *水素化物発生原子蛍光分析

分類 (1件)： 分光分析  (CC03012W)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水素化物発生 ,  原子蛍光分析 ,  高純度 ,  インジウム ,  ヒ素 ,  アンチモン ,  定量