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J-GLOBAL ID：201102237346264306   整理番号：11A0140687

広いpHと電位の領域におけるタングステンとタングステンモノカーバイド(WC)の電気化学的安定性

Electrochemical Stability of Tungsten and Tungsten Monocarbide (WC) Over Wide pH and Potential Ranges

著者 (4件)： WEIDMAN Mark C. (Univ. Delaware, Delaware, USA) ,  ESPOSITO Daniel V. (Univ. Delaware, Delaware, USA) ,  HSU Irene J. (Univ. Delaware, Delaware, USA) ,  CHEN Jingguang G. (Univ. Delaware, Delaware, USA)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157  号： 12  ページ： F179-F188  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 炭化タングステン(WC)とタングステンの電気化学的安定性を広いpHと電位の領域に亘って調べた。クロノポテンシオメトリー滴定,サイクリックボルタンメトリー,線形掃引ボルタンメトリー,X線光電子分光及びSEMを用いて特性化を行った。検討の結果,WCは電気化学的にWと同程度に安定であることが分かった。電気化学的安定性や表面酸化物の生成に関してWCとWの間に差があり,電気化学的応用において重要な意味を持つ。WCの電気化学的応用における電解質,電極条件パラメータ及びデバイスの操作条件の選択に関して有用な情報を示した。

シソーラス用語： *炭化タングステン ,  *タングステン ,  *特性 ,  安定性 ,  pH依存性 ,  依存性 ,  クロノポテンシオメトリー ,  サイクリックボルタンメトリー ,  ボルタンメトリー ,  X線光電子分光法 ,  走査電子顕微鏡 ,  酸化膜 ,  化学的安定性 ,  電位依存性 ,  線形掃引ボルタンメトリー ,  *電気化学的特性 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： *電気化学的性質 ,  SEM【顕微鏡】 ,  酸化物皮膜

分類 (4件)： 塩  (CD01050V) ,  電極過程  (CB07040U) ,  電気物性一般  (BM03010R) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： pH ,  電位 ,  タングステン ,  タングステンモノカーバイド ,  WC ,  化学的安定性