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J-GLOBAL ID：201102237597317999   整理番号：11A0306275

フォトマスクジャパン2010 パネルディスカッションの概要

Photomask Japan 2010 Panel Discussion Overview

著者 (3件)： NAGAOKA Yoshinori (KLA-Tencor Japan Ltd., Kanagawa, JPN) ,  MOHRI Hiroshi (Dai Nippon Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  AKIMA Shinji (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7823  号： Pt.1  ページ： 782306.1-782306.6  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトマスクジャパンは毎年,会議参加者を招いて会合を主催し,議題を選んで議論している。2010年の議題は市場にちょうど現れ始めた新しいマスク検査技術と計測技術に関するものであった。即ち,空間/ウエハ画像に基づく検査と計測,及び光学的な高サンプリング周波数のCD均一性の測定などである。パネルディスカッションは各技術の潜在性を同定し,その技術を企業が採用する場合のあらゆる課題を発見することである。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *半導体プロセス ,  *国際会議 ,  会議 ,  検査 ,  技術 ,  長さ ,  均一性 ,  半導体工業
準シソーラス用語： パネルディスカッション ,  マスク検査 ,  計測技術 ,  クリティカルディメンジョン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： パネルディスカッション ,  概要