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J-GLOBAL ID:201102237824464820   整理番号:11A1611372

高温でのHZSM-5上のn-ヘプタンのクラッキングによる軽質オレフィンの選択的生成

Selective formation of light olefin by n-heptane cracking over HZSM-5 at high temperatures
著者 (4件):
資料名:
巻: 149  号:ページ: 126-133  発行年: 2012年02月01日 
JST資料番号: E0642C  ISSN: 1387-1811  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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軽質オレフィンを選択的に生成するために,種々のSi/Al比を有するHZSM-5触媒上,723~923Kでn-ヘプタンの接触的クラッキングを実施した。種々の酸点密度を有するHZSM-5ゼオライトは同じ転化率でほぼ同じ選択性を示した。エチレン+プロピレンの選択性は反応温度が上昇すると増大したが,これに対してプロピレン/エチレン比は減少した。高温が高いエチレン+プロピレン収率を得るに必要であることが見出された。この研究で得られた最も高いエチレン+プロピレン収率は,HZSM-5(Si/Al=31)上,923Kにおける99.6%転化率での59.7C-%であり,プロピレン/エチレン比は約0.92であった。更に,選択率と活性化エネルギーから単分子クラッキングが923Kのような高温では支配的であると結論された。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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不均一系触媒反応  ,  変性プロセス 
タイトルに関連する用語 (3件):
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