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J-GLOBAL ID：201102237859429270   整理番号：11A0434495

セラミック加工時の有機添加物の焼き切りモニタリングのためのスキマーとのインターフェースがある発生気体分析とイオン付着質量分析

Evolved gas analysis with skimmer interface and ion attachment mass spectrometry for burnout monitoring of organic additives in ceramic processing

著者 (4件)： TSUGOSHI T ,  ITO N ,  NAGAOKA T ,  WATARI K
資料名： TALANTA
巻： 70  号： 1  ページ： 186-189  発行年： 2006年 
JST資料番号： O6332A  ISSN： 0039-9140  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： セラミック ,  添加物 ,  モニタリング ,  インターフェース ,  発生気体分析 ,  イオン付着質量分析