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J-GLOBAL ID：201102237894185023   整理番号：11A0136479

空間充填トリアルコキシシラン 合成および低密度単分子層への自己集合

Space-Filling Trialkoxysilane: Synthesis and Self-Assembly into Low-Density Mopolayers

著者 (4件)： SUBRAMANIAN Nithya (Concordia Univ., Quebec, CAN) ,  SCHMIDT Rolf (Concordia Univ., Quebec, CAN) ,  WOOD-ADAMS Paula M. (Concordia Univ., Quebec, CAN) ,  DEWOLF Christine E. (Concordia Univ., Quebec, CAN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 24  ページ： 18628-18630  発行年： 2010年12月21日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販の出発物質からの2段階戦略を用いて新しい空間充填トリアルコキシシラン誘導体を合成し,低密度自己集合単分子層の形成の前駆体を作った。この合成化合物の自己集合単分子層を3つの異なる基板(Si/SiO₂,ガラスおよびITO)上で調製し,接触角,偏光解析法および和周波発生分光法でキャラクタライズした。空間充填保護基((2-クロロフェニル)ジフェニルメタノール)を除去すると,カルボキシ終端表面が生成する。対応して,接触角と膜厚が減少し,SFGスペクトルは,低密度無秩序単分子層のgauche欠損濃度特性の増加を示す。

シソーラス用語： *有機ケイ素化合物 ,  化学合成 ,  *単分子層 ,  自己集合 ,  *密度 ,  接触角 ,  偏光解析法 ,  スペクトロスコピー ,  キャラクタリゼーション ,  基 ,  膜厚 ,  カルボキシ基
準シソーラス用語： カルボキシル基 ,  *自己集合単分子層 ,  *低密度 ,  保護基 ,  和周波発生分光法

分類 (2件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

物質索引 (1件)： 11-(トリエトキシシリル)ウンデカン酸ジフェニル(2-クロロフェニル)メチル

タイトルに関連する用語 (5件)： トリ ,  アルコキシシラン ,  低密度 ,  単分子層 ,  自己集合