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J-GLOBAL ID：201102238581264255   整理番号：11A0417719

クスノキの根端表皮におけるプロアントシアニジンを蓄積した細胞の一過的な増殖はアルミニウムに高い耐性を持つ根の伸長に寄与する

Transient Proliferation of Proanthocyanidin-Accumulating Cells on the Epidermal Apex Contributes to Highly Aluminum-Resistant Root Elongation in Camphor Tree

著者 (5件)： OSAWA Hiroki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  ENDO Izuki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HARA Yukari (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MATSUSHIMA Yuki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TANGE Takeshi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Plant Physiology  (Plant Physiology)
巻： 155  号： 1  ページ： 433-446  発行年： 2011年01月 
JST資料番号： C0606A  ISSN： 0032-0889  CODEN： PLPHA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルミニウム(Al)は酸性土壌において根の伸長を阻害する元素であるが,一年生作物のAl耐性は有機アニオンの放出によるものとされている。本研究で,高いAl耐性を持つクスノキ(Cinnamomum camphora)の根端の表層の特性を調べ,木本植物のAl耐性機構について明らかにした。ダイズ(Glycine max)が耐えられる濃度の20倍以上である500μMのAlにクスノキを8日間暴露しても,わずかなクエン酸塩の放出しか誘導されなかったが,根の伸長は対照区の64%までにしか減少しなかった。さらに,根端のAl含量は低く保たれていた。組織化学的な解析により,クスノキの根にはプロアントシアニジン(PA)を蓄積した細胞が根端の表皮細胞の外層に隣接して存在することが明らかになった。PA細胞は細胞分裂する領域と細胞伸長の初期段階の領域がはっきり分かれており,次第に根からはがれ落ちて,根端から3-4 mmの領域で表皮細胞が根の表面に現れた。AlはPA細胞や表皮細胞の増殖には影響を与えなかったが,PA細胞の伸長開始を遅らせ,はがれ落ちるのを早めた。以上の結果より,クスノキの根においては,PA細胞の一過的な増殖と解離によって,表皮細胞がAlを回避して伸長することを可能にしている可能性が示唆された。

シソーラス用語： *クスノキ ,  根 ,  細胞内蓄積 ,  *アルミニウム ,  植物成長 ,  表皮 ,  耐性 ,  細胞増殖 ,  細胞分裂
準シソーラス用語： *Cinnamomum camphora ,  根端

分類 (1件)： 植物生理学一般  (EH02010Y)

物質索引 (1件)： プロアントシアニジン

タイトルに関連する用語 (10件)： クスノキ ,  根端 ,  表皮 ,  プロアントシアニジン ,  蓄積 ,  細胞 ,  増殖 ,  アルミニウム ,  耐性 ,  根