文献

J-GLOBAL ID：201102239390014484   整理番号：11A1079869

歯科用合金上のL-システイン膜の電子構造

Electronic structures of the l-cysteine film on dental alloys

著者 (6件)： OGAWA K. (Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN) ,  TSUJIBAYASHI T. (Dep. of Physics, Osaka Dental Univ., Osaka 573-1121, JPN) ,  TAKAHASHI K. (Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN) ,  AZUMA J. (Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN) ,  KAKIMOTO K. (Dep. of Geriatric Dentistry, Osaka Dental Univ., Osaka 573-1121, JPN) ,  KAMADA M. (Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
資料名： Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena  (Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena)
巻： 184  号： 3-6  ページ： 327-330  発行年： 2011年04月 
JST資料番号： D0266C  ISSN： 0368-2048  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属-有機物界面は基礎バイオサイエンスを含め多数の分野で連続的に注目を引いている。歯科用合金の表面は,これらが蛋白質や微生物などの有機化合物に満ちた環境中で使われるため,このような界面の一つになり得る。本研究では,Auの他にAgとCuを含むAuが支配的な歯科用合金の電子構造と,歯科用合金上のL-システインの電子構造をシンクロトロン放射による光電子分光法により調べた。歯科用合金の状態密度は構成要素である金と銅から生じ,Fermi準位付近の占有状態にはCu-3d状態の寄与が支配的になることを見いだした。また,歯科用合金上のL-システイン薄膜の電子構造はL-システイン膜厚膜の場合とは異なることも見いだした。これら結果は,歯科用合金上の薄膜中のCu-3d状態とS-3d状態との軌道結合が形成されることを示している。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *歯科用合金 ,  シンクロトロン放射 ,  *光電子スペクトル ,  光電子分光法 ,  状態密度 ,  金合金 ,  銀含有合金 ,  銅含有合金 ,  白金含有合金 ,  配位混合 ,  パラジウム含有合金 ,  脂肪族アミン ,  チオール ,  脂肪族カルボン酸 ,  含硫アミノ酸 ,  第一アミン

分類 (2件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  歯科材料  (GT06000B)

物質索引 (1件)： L-システイン

タイトルに関連する用語 (3件)： 歯科用合金 ,  L-システイン ,  電子構造