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J-GLOBAL ID：201102239869321780   整理番号：11A0710669

ナノ構造ガラスにおける残留歪のキャラクタリゼーション

Characterization of Residual Strain in Nanostructured Glasses

著者 (2件)： CHEN G. (Ohio Univ., OH, USA) ,  WAN C. (Ohio Univ., OH, USA)
資料名： Materials Science & Technology Conference and Exhibition  (Materials Science & Technology Conference and Exhibition)
巻： 2010 Vol.2  ページ： 1045-1049  発行年： 2010年 
JST資料番号： E0697C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 小・広角X線散乱(S/WAXS)を用いて,中距離及びナノスケール構造の,熱的にアニールしたゾル-ゲル法によるコロイダルシリカの特性を調べた。その結果,2つの臨界温度があり,これらは周期的メゾポーラスシリカで報告されているものと類似しているが,コロイダルシリカは欠陥が少なくナノ構造がより緩和していることが判明した。なお,S/WAXSはナノ構造ガラスの種々の起源の残留歪のキャラクタリゼーションに感度の優れた方法であると思われる。

シソーラス用語： ナノ構造 ,  *ガラス ,  *残留歪 ,  焼なまし ,  ゾル-ゲル法 ,  多孔質体 ,  感度 ,  X線散乱 ,  大角散乱 ,  小角X線散乱 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  コロイダルシリカ ,  メソポーラスシリカ ,  広角X線散乱

分類 (1件)： ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノ構造 ,  ガラス ,  残留歪 ,  キャラクタリゼーション