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J-GLOBAL ID：201102240497907064   整理番号：10A1754407

グラフェンオキシドインクのインクジェット印刷によるサブミリメータスケールのグラフェンパターン形成

Submillimeter-scale Graphene Patterning through Ink-jet Printing of Graphene Oxide Ink

著者 (6件)： JO Yong Min (Dep. of Mechanical Engineering, Chungju National Univ.) ,  YOON Seyoung (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Chungju National Univ.) ,  LEE Ji-hoon (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Chungju National Univ.) ,  PARK Sung-jun (Dep. of Mechanical Engineering, Chungju National Univ.) ,  KIM Sung Ryong (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Chungju National Univ.) ,  IN Insik (Dep. of Polymer Sci. and Engineering, Chungju National Univ.)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 40  号： 1  ページ： 54-55 (J-STAGE)  発行年： 2011年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンオキシド(GO)インクのインクジェット印刷と,それに続くヒドラジン蒸気での還元により,サブミリメータスケールで還元グラフェンのパターン形成を成功裏に実行した。GOインクのインクジェット印刷を簡便に成功させるために,GOプレートのサイズは最も重要なパラメータである。調製したグラフェン線は1.1 S m^-1の伝導度を示すが,これは,典型的なグラフェン膜伝導度の5分の1である。これは,インクジェット印刷においてグラフェンプレートのパーコレーションが減少したためである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 層状化合物 ,  *グラファイト ,  *酸化物 ,  パターン形成 ,  ヒドラジン ,  還元 ,  サイズ効果 ,  電気伝導率 ,  パーコレーション ,  水溶性 ,  ウエハ【IC】 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  凝集体 ,  閉塞 ,  シート抵抗 ,  Ramanスペクトル ,  基板 ,  電気装置部品 ,  インク ,  インクジェット印刷
準シソーラス用語： PET【重合体】 ,  ガラス基板 ,  *グラフェンオキシド ,  ケイ素基板 ,  酸化黒鉛 ,  電界放出型走査電子顕微鏡

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  インキ  (YJ02000N)

引用文献 (19件)：

• 1) K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666.
• 2) D. A. Dikin, S. Stankovich, E. J. Zimney, R. D. Piner, G. H. B. Dommett, G. Evmenenko, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Nature 2007, 448, 457.
• 3) A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183.
• 4) J. Wu, W. Pisula, K. Müllen, Chem. Rev. 2007, 107, 718.
• 5) M. Freitag, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 455.

タイトルに関連する用語 (3件)： インクジェット印刷 ,  グラフェン ,  パターン形成