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J-GLOBAL ID：201102241003431751   整理番号：11A0113847

ヒトイントロン及びエキソンの相反的ヒストン修飾領域

Reciprocal intronic and exonic histone modification regions in humans

著者 (4件)： HUFF Jason T (Univ. California, California, USA) ,  PLOCIK Alex M (Univ. California, California, USA) ,  GUTHRIE Christine (Univ. California, California, USA) ,  YAMAMOTO Keith R (Univ. California, California, USA)
資料名： Nature Structural & Molecular Biology  (Nature Structural & Molecular Biology)
巻： 17  号： 12  ページ： 1495-1499  発行年： 2010年12月 
JST資料番号： W0637A  ISSN： 1545-9993  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RNAポリメラーゼIIによる転写進行と相関するヒストン修飾を,ヒトヌクレオソームと41のクロマチン標識データより解析した。主成分分析により,活性化プロモーターや大部分のヌクレオソームとは区別される5′イントロンに偏在する10の修飾構造を同定し,これらの修飾はヒストンH3Lys36のトリメチル化に代表され,転写開始部位下流の最初のイントロンから内部エキソンの前まで偏在した。トリメチル化ヒストンはジメチル化ヒストンとは空間的に相反関係にあり,内部エキソンに濃縮していた。幾つかのメチル化はエキソン様配列組成領域(ECR)ではなく,真のエキソン近傍で推移し,ヒストン修飾はスプライシングの変化に対して安定であることを示した。

シソーラス用語： ヒト ,  エキソン ,  イントロン ,  *タンパク質メチルトランスフェラーゼ ,  *ヒストン ,  基質特異性 ,  アミノ酸配列 ,  翻訳後修飾
準シソーラス用語： *ヒストンH3 ,  *ヒストンメチルトランスフェラーゼ

分類 (1件)： 遺伝子発現  (EC02040Q)

タイトルに関連する用語 (2件)： エキソン ,  ヒストン修飾