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J-GLOBAL ID：201102241203833277   整理番号：11A0398803

1.3~1.6μmのスペクトル範囲におけるオパール-VO₂複合材料に基づく三次元膜フォトニック結晶のフォトニックバンドギャップのスイッチング

Switching of the Photonic Band Gap in Three-Dimensional Film Photonic Crystals Based on Opal-VO₂ Composites in the 1.3-1.6μm spectral range

著者 (6件)： PEVTSOV A. B. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS) ,  GRUDINKIN S. A. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS) ,  PODDUBNY A. N. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS) ,  KAPLAN S. F. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS) ,  KURDYUKOV D. A. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS) ,  GOLUBEV V. G. (Ioffe Physical Technical Inst., Russian Acad. Sci., St. Petersburg, RUS)
資料名： Semiconductors  (Semiconductors)
巻： 44  号： 12  ページ： 1537-1542  発行年： 2010年12月 
JST資料番号： T0093A  ISSN： 1063-7826  CODEN： SMICES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近赤外スペクトル範囲(1.3~1.6μm)におけるオパール-VO₂複合材料に基づく三次元(3D)フォトニック結晶のパラメータを数値計算によって推定した。この特定領域について,VO₂を含浸したオパールマトリックス中の細孔の可能な充填係数の範囲(0.25<f,0.6)を決定した。ここで,オパール-VO₂複合材料は3D絶縁体フォトニック結晶と考えられる。直径(約600nm)のa-SiO₂球とそのような球に基づくオパール膜の生産手順を開発し,オパールマトリックスの細孔中へのVO₂の混入手順を開発した。合成膜フォトニック結晶のBragg反射ピークシフトから決定されるように,1.5μm近傍におけるフォトニックバンドギャップのシフトは170meVの大きさであった。

シソーラス用語： *オパール ,  *酸化バナジウム ,  *複合材料 ,  三次元 ,  膜 ,  *フォトニックバンドギャップ ,  スイッチング ,  近赤外スペクトル ,  数値計算 ,  細孔 ,  絶縁材料 ,  二酸化ケイ素 ,  球 ,  Bragg反射 ,  フォトニック結晶 ,  絶縁体
準シソーラス用語： ピークシフト

分類 (2件)： 絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： スペクトル ,  オパール ,  VO2 ,  複合材料 ,  フォトニック結晶 ,  フォトニックバンドギャップ ,  スイッチング