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J-GLOBAL ID:201102241380371194   整理番号:11A0478846

放電プラズマ焼結による液相焼結で作製したナノ構造炭化ケイ素セラミック

Nanostructured silicon carbide ceramics fabricated through liquid-phase sintering by spark plasma sintering
著者 (3件):
資料名:
巻: 119  号: 1386  ページ: 129-132 (J-STAGE)  発行年: 2011年 
JST資料番号: F0382A  ISSN: 1882-0743  CODEN: JCSJEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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直径40nmのβ-SiC粉末の放電プラズマ焼結により,95mol%AlNと5mol%Y2O3から成る焼結助剤を総量10vol%添加した液相焼結により,高密度ナノ構造SiCセラミックを作製した。1900°C,300sで焼結した緻密SiCは焼結中に顕著な粒粗大化することなく,平均サイズ70nmの等軸粒から構成されていた。5vol%以上のAlN-Y2O3助剤でナノサイズβ-SiC粉末の高密度化(>99%理論密度)が達成できた。粒サイズはAlN-Y2O3助剤の総量の増加および1900°Cにおける保持時間の減少と共に微細化した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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セラミック・陶磁器の製造 

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