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J-GLOBAL ID：201102241774270911   整理番号：11A0300830

ジルコニウムの高出力インパルスマグネトロンスパッタリングの特性評価

Characterization of High Power Impulse Magnetron Sputtering of Zirconium

著者 (1件)： LAZAR J. (Univ. West Bohemia, Plzen, CZE)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 53rd  ページ： 183-186  発行年： 2010年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 圧力1Pa下でArガスとZrジルコニウム(Zr)ターゲットを用い,高出力インパルスマグネトロンスパッタリング時のイオンフラックス(以下,フラックス)特性と対応する蒸着特性を調べ,以下の知見を得た。1)平均ターゲット電力密度が5~103W/cm²に増加すると,フラックスは急激に立上り,全フラックス中のZr⁺とZr²⁺の割合,蒸着速度およびフラックス中のZr原子のイオン化率の値が増加する,2)パルスを短縮化して平均ターゲット電力密度を大幅に増大させると,全フラックス中のZr²⁺の割合は増加するがZr⁺は減少し,蒸着速度とZr原子のイオン化率は低下する,3)ターゲット/基板間距離を大幅に増大させると,全フラックス中でZr²⁺が支配的となる。

シソーラス用語： *ジルコニウム ,  マグネトロンスパッタリング ,  衝撃電圧 ,  衝撃電流 ,  放射線束 ,  ターゲット ,  金属イオン ,  イオン化 ,  物理蒸着 ,  スパッタ蒸着
準シソーラス用語： *イオンフラックス ,  ジルコニウムイオン ,  スパッタリングターゲット ,  *パワー依存性 ,  *高出力インパルスマグネトロンスパッタリング ,  電力密度

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ジルコニウム ,  高出力 ,  インパルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  特性評価