文献

J-GLOBAL ID：201102244332073202   整理番号：11A0113726

脱ヒドロキシル化の際のβ-クリストバライトの001,101および111表面の再構成と安定性

Reconstruction and stability of β-cristobalite 001, 101, and 111 surfaces during dehydroxylation

著者 (3件)： ROZANSKA Xavier (Ecole Normale Superieure de Lyon, Lyon, FRA) ,  DELBECQ Francoise (Ecole Normale Superieure de Lyon, Lyon, FRA) ,  SAUTET Philippe (Ecole Normale Superieure de Lyon, Lyon, FRA)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 12  号： 45  ページ： 14930-14940  発行年： 2010年12月07日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 周期的密度汎関数理論を用いてβ-クリストバライトの001,101および111表面の脱ヒドロキシル化を解析し,温度および水の分圧の関数としてこれらの表面のOH密度安定性ダイアグラムを作成した。実験的に測定されたヒドロキシル被覆に到達するには,SiO₂単位のマイグレーションを含む表面の再構成が必要であることが計算により示唆された。この周期的モデルとアモルファスシリカ表面との間には明らかなトポロジー的差異があるのにもかかわらず,得られた熱化学データ,すなわち標準条件における3.7-5.2OH nm^-2,およびP=10^-10atmおよびT=800Kにおける1.4-2.6OH nm^-2はアモルファスシリカに対する実験値と一致した。

シソーラス用語： *クリストバライト ,  *表面 ,  *再構成 ,  密度汎関数法 ,  二酸化ケイ素 ,  *脱ヒドロキシ
準シソーラス用語： *脱ヒドロキシル ,  シリカ

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  化学熱力学・熱化学一般  (CB02010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ヒドロキシル化 ,  クリストバライト ,  再構成 ,  安定性