文献
J-GLOBAL ID:201102244555804136   整理番号:11A1593241

某電子デバイス工場におけるケミカルエアワッシャの性能評価

著者 (4件):
資料名:
号: 105  ページ: 58-61  発行年: 2011年09月 
JST資料番号: L0276A  ISSN: 0914-8264  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
電子デバイス工場などの先端産業では,外気中に含まれる化学物質が製造環境(クリーンルーム)内に入り込むと,歩留まりに影響することがある。そこで外気処理用空調機(以下外調機)にケミカルエアウォッシャーを組み込み,化学物質の除去を行う方法が一般的に採用されている。一方ワッシャーに関する実測データは少なく,その性能はカタログデータで判断するしかなかった。そこでガス汚染に関する実測データを整理しておく必要性にかられて某電子デバイス工場でのワッシャーの性能評価を実施した。その結果次の知見を得た。1)イオン成分はよく除去できているが,アウトガスに注意しなければならない,2)金属のボロンはワッシャでは除去できなかった,3)非水溶性の有機物は除去できなかったが,一部の水溶性のアルコール成分を除去できることを確認した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
空気浄化 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る