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J-GLOBAL ID：201102245750575326   整理番号：11A1594729

同軸ホログラフィックメモリ用の基準パターンと入力位相マスクの設計

Design of Reference Pattern and Input Phase Mask for Coaxial Holographic Memory

著者 (4件)： SAITA Yusuke (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  NOMURA Takanori (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  NITANAI Eiji (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  NUMATA Takuhisa (Wakayama Univ., Wakayama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 9,Issue 2  ページ： 09ME03.1-09ME03.5  発行年： 2011年09月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 同軸ホログラフィックメモリ用の基準パターンと入力位相マスクの設計方法を述べた。提唱した方法により,記録媒体のダイナミックレンジの無用な消費が減少し,信号ビームと基準ビームの干渉効率及び光効率が改善する。基準パターンと入力位相マスクをシミュレーテッドアニーリングにより設計した。提唱した設計法の性能を数値シミュレーションと光学実験により確認した。さらに,設計した基準パターンと設計した入力位相マスクを用いたホログラフィックメモリ系も数値シミュレーションと光学実験により確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ホログラムメモリ ,  *マスク ,  記憶媒体 ,  媒質 ,  *シミュレーテッドアニーリング ,  シミュレーション ,  型 ,  効率 ,  数値シミュレーション
準シソーラス用語： *位相マスク ,  干渉効率 ,  基準パターン ,  記録媒体 ,  光効率

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  ホログラフィーの応用  (BD03074U)

引用文献 (13件)：

• 1) H. Horimai, X. Tan, and J. Li: Appl Opt. 44 (2005) 2575.
• 2) H. Honmai and X. Tan: Appl. Opt. 45 (2006) 910.
• 3) T. Shimura, S. Ichimura, R. Fujimura, K. Kuroda, X. Tan, and H. Honmai. Opt. Lett. 31 (2006) 1208.
• 4) O. Matoba, Y. Yokohama, M. Miura, K. Nitta, and T. Yoshimura: Appl. Opt 45 (2006) 3270.
• 5) M. Miura, O. Matoba, K. Nitta, and Y. Yoshimura: Appl. Opt. 46 (2007) 1460.

タイトルに関連する用語 (6件)： 同軸 ,  ホログラフィックメモリ ,  基準パターン ,  位相 ,  マスク ,  設計