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J-GLOBAL ID:201102247971978878   整理番号:11A0300869

加工プラズマ中の振動数プローブ測定

Frequency Probe Measurements in Processing Plasmas
著者 (5件):
資料名:
巻: 53rd  ページ: 404-408  発行年: 2010年 
JST資料番号: E0063B  ISSN: 0737-5921  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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プラズマのアンテナインピーダンス原理を利用するプラズマ周波数プローブを使って,表面から離れた強いプラズマ密度勾配をもつ非常に不均一な電子ビーム発生プラズマにおけるプラズマ密度測定を行った。電子ビーム発生プラズマ加工システムにおける種々の実験条件に対して,周波数プローブ測定をLangmuirプローブ測定と比較した。強い密度勾配をもつプラズマではプラズマ周波数プローブデータの説明は非常に複雑であった。プラズマパラメータを変えたとき,プラズマ周波数プローブはLangmuirプローブと同じ傾向を示すが絶対値では一致しなかった。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
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プラズマ一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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