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J-GLOBAL ID：201102248378418714   整理番号：11A0165593

医用用途用新規位置選択的硫酸化ヒアルロン酸の合成

Synthesis of New Regioselectively Sulfated Hyaluronans for Biomedical Application

著者 (5件)： BECHER Jana (INNOVENT e.V., Jena, DEU) ,  MOELLER Stephanie (INNOVENT e.V., Jena, DEU) ,  WEISS Dieter (Friedrich-Schiller-Univ. Jena, Jena, DEU) ,  SCHILLER Juergen (Univ. Leipzig, Leipzig, DEU) ,  SCHNABELRAUCH Matthias (INNOVENT e.V., Jena, DEU)
資料名： Macromolecular Symposia  (Macromolecular Symposia)
巻： 296  ページ： 446-452  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0318C  ISSN： 1022-1360  CODEN： MSYMEC  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硫酸化ヒアルロン酸(Hya)の新規手法について検討した。C-6’にフリー1次ヒドロキシル基及び硫酸化2次ヒドロキシル基を有する硫酸化ヒアルロン酸の合成を試みた。以下のプロセスについて述べた。1)高硫酸化ヒアルロン酸の合成(sHya-3.1),2)ヒアルロン酸硫酸化トリブチルアンモニウム塩の調製(Tr-sHya-3.1),3)ヒアルロン酸硫酸化ピリジニウム塩の調製(Py-sHya-3.1),4)Tr-sHya-3.1及びPy-sHya-3.1の脱硫酸(sHya-A),5)TBA-Hyaのベンゾイル化(TBA-Bz-Hya),TBA-Bz-Hyaの硫酸化及び脱保護。シリル化剤により高硫酸化ヒアルロン酸の脱硫酸化法適用により,1次C-6’位置及び部分的にC-4’位置を位置選択的に脱硫酸化した。また,硫酸化中ベンゾイルエステル保護基使用により,C-6’位置がフリーで,2次ヒドロキシル基(C-2,C-3,C-4’)のみが置換された高置換Hyaも合成出来た。

シソーラス用語： *位置特異性反応 ,  *ヒアルロン酸 ,  医用高分子 ,  物 ,  グリコサミノグリカン ,  シリル化 ,  *硫酸化 ,  ベンゾイル化 ,  脱保護基 ,  *置換 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  *位置選択性反応 ,  医用高分子材料 ,  抽出物

分類 (1件)： 多糖類  (CF10054P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 用途 ,  位置選択 ,  硫酸化 ,  ヒアルロン酸