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J-GLOBAL ID：201102249793561316   整理番号：11A1006626

反応焼結法により調製した多孔質の地下っケイ素とSIALON

Porous Silicon Nitride And Sialon Prepared By Reaction Sintering Method

著者 (1件)： KIM Hai-Doo (Korea Inst. of Materials Sci., Gyeongnam, KOR)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集  (Abstracts. Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan)
巻： 23rd (CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.S4-035  発行年： 2010年11月14日 
JST資料番号： L2240A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： エンジニアリングセラミック ,  *窒化ケイ素 ,  *SIALON ,  鉱物合成 ,  反応焼結 ,  多孔質体 ,  プロセスパラメータ

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応焼結 ,  調製 ,  多孔質 ,  ケイ素 ,  SIALON