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J-GLOBAL ID：201102250592792407   整理番号：11A1121359

セミバッチポリスチレン反応器への遺伝的アルゴリズム機能を持つセルフ-チューニングPID制御の適用

Application of self-tuning PID control with genetic algorithm to a semi-batch polystyrene reactor

著者 (4件)： ALTINTEN Ayla (Gazi Univ., Ankara, TUR) ,  KARAKURT Sevtap ,  ERDOGAN Sebahat (Gazi Univ., Ankara, TUR) ,  ALPBAZ Mustafa (Ankara Univ., Ankara, TUR)
資料名： Indian Journal of Chemical Technology  (Indian Journal of Chemical Technology)
巻： 17  号： 5  ページ： 356-365  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： C0729B  ISSN： 0971-457X  CODEN： ICHTEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： インド (IND)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セミバッチ重合反応器中のモノマー濃度を変えることにより,反応速度は時間とともに非線形的に変化する。熱移動特性は,反応中のポリマー溶液の粘度の大きな変化で,又,環境条件により変化する。これらの因子は重合プロセスの自動制御を複雑にする。本研究では,希望する転嫁率及び分子量のための操作制約,最適反応器温度を最小時間で推測するためにセルフ-チューニングPID制御器の検討を試みた。遺伝的アルゴリズムを用いて制御器のチューニングパラメータを得た。結果は,遺伝的アルゴリズムを有するSTPID制御器はセミバッチポリスチレン重合器の温度を制御した。

シソーラス用語： 回分反応器 ,  *ポリスチレン ,  *制御 ,  *遺伝的アルゴリズム ,  同調 ,  反応温度
準シソーラス用語： *重合反応器 ,  セルフチューニング

分類 (3件)： 化学プロセスの制御  (XC02020N) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  ポリスチレン  (YH07120V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応器 ,  遺伝的アルゴリズム ,  チューニング ,  PID制御