文献

J-GLOBAL ID：201102255331733120   整理番号：11A0411432

表面波プラズマの空間分布に及ぼす励起周波数の効果

Effect of Excitation Frequency on the Spatial Distributions of a Surface Wave Plasma

著者 (7件)： MUTA Hiroshi (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  NISHIDA Satoshi (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  KURIBAYASHI Shizuma (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  YOSHIKAWA Naoki (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KOMATSU Ryota (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAWAI Yoshinobu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 1,Issue 2  ページ： 01AB07.1-01AB07.4  発行年： 2011年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 450nmウエハ処理用表面波プラズマの空間分布に及ぼす励起周波数効果を,2.45GHzと915MHzの異なる周波数を用いて,1Torrの中圧において,実験により研究した。実験結果から,表面波が半径方向に形成する定在波のモード数は半径方向プラズマ密度に大きな影響を及ぼすことが分かった。結果として,915MHzでの下流領域におけるプラズマ不均一性は2.45GHzよりも良いが,反対に,両周波数とも,電子温度はおおよそ一定で,石英窓付近を除いて1.5eVを下回っていた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  ウエハ【IC】 ,  プラズマ ,  周波数 ,  プラズマ密度 ,  密度分布 ,  空間分布 ,  電子温度 ,  温度分布 ,  電子密度 ,  *不均質プラズマ ,  UHF波
準シソーラス用語： *表面波プラズマ ,  励起周波数

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (19件)：

• M. Kambara, Y. Hamai, H. Yagi, and T. Yoshida: Surf. Coat. Technol.201(2007)5529.
• M. Kambara, H. Yagi, M. Sawayanagi, and T. Yoshida: J. Appl. Phys.99(2006)074901.
• S. Tajima and K. Komvopoulos: J. Phys. Chem. B 109(2005)17623.
• N. De Geyter, R. Morent, T. Desmet, M. Trentesaux, L. Gengembre, P. Dubruel, C. Leys, and E. Payen: Surf. Coat. Technol.204(2010)3272.
• M. Nagatsu, I. Ghanashev, and H. Sugai: Plasma Sources Sci. Technol.7(1998)230.

タイトルに関連する用語 (3件)： 表面波プラズマ ,  空間分布 ,  励起周波数