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J-GLOBAL ID：201102255645527877   整理番号：11A1138407

975nmパルス励起におけるビスマスベースのガラスのEr(3+)蛍光の過渡応答

Transient Response of Er(3+) Fluorescence in Bismuth-based Glass under 975 nm-pulsed Excitation

著者 (5件)： ZHOU Ya-xun (Coll. of Information Sci. and Engineering,Ningbo Univ., Zhejiang, Ningbo) ,  WANG Da-gang (Coll. of Information Sci. and Engineering,Ningbo Univ., Zhejiang, Ningbo) ,  CHEN Fen (Coll. of Information Sci. and Engineering,Ningbo Univ., Zhejiang, Ningbo) ,  YANG Gao-bo (Coll. of Information Sci. and Engineering,Ningbo Univ., Zhejiang, Ningbo) ,  DAI Shi-xun (Coll. of Information Sci. and Engineering,Ningbo Univ., Zhejiang, Ningbo)
資料名： Guangdian Gongcheng  (Guangdian Gongcheng)
巻： 37  号： 3  ページ： 99-104  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2092A  ISSN： 1003-501X  CODEN： GUGOEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 組成Bi_2O_3-B_2O_3-Si_2OのEr(3+)-dopedビスマスベースのガラスを従来の高温溶融およびアニーリング法で作成した。Er(3+)の1.5μmバンド分光学的特性を測定し分析し,975nrnのパルス励起における1.5μmバンド蛍光の過渡応答に焦点を合わせた。結果は,Er(3+)蛍光の増減プロセスが975nmパルスの上下端に対応してあり,反応速度は4I13/2レベルのEr(3+)の寿命に左右されることを証明した。Bi_2O_3成分含有量の増加に伴い,Er(3+)の寿命はガラスのOHグループにより起きたエネルギー移動の影響で減り,それに従って応答は速くなる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *ビスマス ,  *過渡応答 ,  ベース【半導体】 ,  ガラス ,  パルス ,  励起 ,  蛍光 ,  エネルギー移動 ,  シミュレーテッドアニーリング
準シソーラス用語： アニーリング法

分類 (1件)： 数値計算  (JE02000J)

タイトルに関連する用語 (7件)： パルス ,  励起 ,  ビスマス ,  ガラス ,  Er ,  蛍光 ,  過渡応答