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J-GLOBAL ID：201102255771749656   整理番号：11A0291694

グラフェンナノリボンのSTMリソグラフィーによる結晶学的に配向した高分解能リソグラフィー

Crystallographically oriented high resolution lithography of graphene nanoribbons by STM lithography

著者 (5件)： DOBRIK G. (Res. Inst. Technical Physics and Materials Sci., Budapest, HUN) ,  TAPASZTO L. (Res. Inst. Technical Physics and Materials Sci., Budapest, HUN) ,  NEMES-INCZE P. (Res. Inst. Technical Physics and Materials Sci., Budapest, HUN) ,  LAMBIN Ph. (Fac. Universitaires Notre-Dame de la Paix, Namur, BEL) ,  BIRO L.P. (Res. Inst. Technical Physics and Materials Sci., Budapest, HUN)
資料名： Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics  (Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics)
巻： 247  号： 4  ページ： 896-902  発行年： 2010年04月 
JST資料番号： C0599A  ISSN： 0370-1972  CODEN： PSSBBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： グラフェンナノリボン ,  STM ,  リソグラフィー ,  結晶学 ,  配向 ,  高分解能