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J-GLOBAL ID:201102258107085243   整理番号:11A1154112

短ギャップ放電で製造したSiH4/H2VHFプラズマの特性評価

Characteristics of SiH4/H2 VHF plasma produced by short gap discharge
著者 (9件):
資料名:
巻: 205  号: Supplement 2  ページ: S411-S414  発行年: 2011年07月25日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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SiH4/H2VHFプラズマを,マルチロッド電極で作製し,基礎的なプラズマパラメータを圧力と出力の関数として調べ,電源周波数は60Hzである。イオン飽和電流は圧力と同様にある出力でピークを示すことが明らかとなった。これらの結果について,VHF電界での電子捕獲効果の観点から考察した。更に,シース電位の異常な減少が観察された。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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その他の無機化合物の薄膜 
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