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J-GLOBAL ID：201102258108096338   整理番号：11A0950477

RELAXにおける低A RFPプラズマ研究の最近の成果

Recent Progress in Low-A RFP Plasma Research in RELAX

著者 (12件)： SANPEI Akio (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  IKEZOE Ryuya (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  ONCHI Takumi (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  OKI Kensuke (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  SUGIHARA Masaki (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  KONISHI Yuusuke (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  FUJITA Shin-ichi (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  NAKAMURA Mitsuru (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  HIGASHI Akio (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  MOTOI Hidehiko (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  HIMURA Haruhiko (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN) ,  MASAMUNE Sadao (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 5  ページ： S2063-S2063 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アスペクト比2(R/a=0.51/0.25)の低アスペクト比(low-A)逆磁場ピンチ(RFP)装置の最近の成果を報告する。low-A RFPプラズマの放電特性を述べる。F-Θ空間における放電領域によれば,アスペクト比を小さくするとF-Θ空間動作領域は著しく高いΘ(>3),深い反転(F<-1)領域に拡大する。低アスペクト実験逆磁場ピンチ(RELAX)では,回転ヘリカルOhm平衡RFP状態は浅い反転放電で実現される。初歩的フィードバックシステムを開発し,~2msのより長い時間のプラズマ電流を得た。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： アスペクト比 ,  *磁場閉込め ,  フィードバック制御 ,  プラズマ安定化
準シソーラス用語： *逆磁場ピンチ ,  *低アスペクト比 ,  非線形MHD

分類 (2件)： プラズマ平衡・閉込め  (BJ02070P) ,  核融合装置  (BJ02083Z)

引用文献 (12件)：

• [1] M. D. Wyman et al., Phys. Plasmas. 15, 010701 (2008).
• [2] H. Koguchi et al., Plasma Fusion Res. 2, 050 (2007).
• [3] R. Lorenzini et al., Nature Physics 5, 570 (2009).
• [4] S. Shiina et al., Phys. Plasmas. 12, 080702 (2005).
• [5] S. Masamune et al., J. Phys. Soc. Jpn. 76, 123501 (2007).

タイトルに関連する用語 (4件)： RFP ,  プラズマ ,  研究 ,  成果