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J-GLOBAL ID：201102258126931732   整理番号：11A1270642

商品化につながる素材開発 反射防止フィルム用低屈折率中空シリカ粒子の開発

著者 (1件)： 平井俊晴 (日揮触媒化成)
資料名： 化学工学  (Chemical Engineering of Japan)
巻： 75  号： 8  ページ： 518-521  発行年： 2011年08月05日 
JST資料番号： F0099A  ISSN： 0375-9253  CODEN： KKGKA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 防眩処理は大別して2つの方式があり,液晶テレビで主に採用された表面に微小な凹凸を形成し外光を散乱させるアンチグレア(AG)方式とプラズマテレビで主に採用された反射光の干渉により光の反射を抑える反射防止膜(LR)方式に分けられる。LR膜は反射光の干渉により映りこみ画像の低減をおこなう方式のため,コントラスト低下は生じないが,反射率を下げるために多層の光学薄膜を形成する必要があり,製造コストが高いという問題を抱えている。LR膜を安価に形成するためには,多層型LR膜の層数を減らし,かつ生産性の高い方法でLR膜を形成できる技術が求められていた。湿式LR膜の原理と湿式形成法,ブラウン管ディスプレイ表面の防眩表面処理技術,薄型ディスプレイへの防眩表面処理技術・低屈折率材料の開発,最新の低屈折率材料:中空シリカ粒子の開発,LR膜の代表的膜物性と今後の中空シリカ粒子の展開などについて解説した。

シソーラス用語： *商品化 ,  *材料 ,  *技術開発 ,  材料設計 ,  *反射防止膜 ,  *屈折率 ,  *中空体 ,  固体粒子 ,  まぶしさ ,  散乱 ,  コントラスト ,  反射率 ,  薄膜成長 ,  製造原価 ,  生産性 ,  湿式法 ,  表面処理 ,  光 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *素材 ,  反射光 ,  眩輝

分類 (2件)： その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K) ,  入出力装置  (JC04050U)

引用文献 (6件)：

• 河村. ディスプレイアンドイメージング. 1994, 3, 51-57
• TONG, H. SID 98 DIGEST. 1998, 253-257
• LOSER, O. Glastech. Ber. Glass Sci. Technol. 2000, 73, 9, 270-275
• 佐山. National Technical Report. 1995, 41, 4, 105-111
• HIRAI, T. Second International Conference on SILICA, 2001. 2001

タイトルに関連する用語 (7件)： 商品化 ,  素材 ,  開発 ,  反射防止フィルム ,  低屈折率 ,  中空 ,  シリカ粒子