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J-GLOBAL ID：201102258427737931   整理番号：11A1425307

プラズマ電解炭窒化により製造したTi(CxN_(1-x))厚膜の成長機構

Growth Mechanism for Ti(CxN_(1-x)) Thick Films Prepared by Plasma Electrolytic Carbonitriding

著者 (5件)： Li Xinmei (Postdoctoral Workstation, School of Mechanical Engineering, Xinjiang Univ., Urumqi) ,  Sun Wenlei (Postdoctoral Workstation, School of Mechanical Engineering, Xinjiang Univ., Urumqi) ,  Han Yong (State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an) ,  Liu Bing (Postdoctoral Workstation, School of Mechanical Engineering, Xinjiang Univ., Urumqi) ,  Sun Yaoning (Postdoctoral Workstation, School of Mechanical Engineering, Xinjiang Univ., Urumqi)
資料名： Wuji Huaxue Xuebao  (Wuji Huaxue Xuebao)
巻： 26  号： 6  ページ： 1049-1055  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2431A  ISSN： 1001-4861  CODEN： WHUXEO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： プラズマ電解炭窒化(PECN)により,Ti_6A_(14)V基板上にTi(CxN_(1-x))厚膜を得た。PECN中の蒸気包含組成をIRにより研究し,Ti(CxN_(1-x))膜の成長機構を分析した。結果は,PECNでのガス生成物が,主に,CH_4,NH_3,C_2H_2,CO,CO_2,および水で構成され事を示している。ガス生成物は有機溶媒の分解から発生し,そしてガス間には相互作用がある。放電時間の延長により,CとNは蒸気包の中で,ガス濃度の変化に伴い変化し,同様にTi(C_xN_(1-x))膜のC/N比も変わる。Ti(CxN(1-x))膜は,PECNプロセスの間の次のステージで成長する:(i)ガス状水素の発生と,有機溶媒の分解による蒸気包の形成,(ii)プラズマの作用下,活性炭-活性窒素-含有ラジカルを生成するガス生成物の解離とイオン化,(iii)活性炭-活性窒素-含有ラジカルのTi中への拡散(iv)活性種とTi(CxN(1-x))膜の形成を促進するチタン表面と活性種の反応吸収。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： プラズマ ,  電解 ,  *厚膜 ,  蒸気 ,  気体 ,  相互作用 ,  有機溶媒 ,  活性炭 ,  窒素 ,  ラジカル
準シソーラス用語： ガス ,  活性窒素

分類 (1件)： 化学一般その他  (CA01060X)

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  電解 ,  炭 ,  窒化 ,  Ti ,  厚膜 ,  成長