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J-GLOBAL ID:201102258811675013   整理番号:11A0908353

界面場を利用した超分子ナノドットパターンの形成挙動

著者 (9件):
資料名:
巻: 91st  号:ページ: 975  発行年: 2011年03月11日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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ドデシル基を側鎖に有する両親媒性メリチン酸トリイミド単分子膜と水溶性環状アミンを気液界面場で分子認識させることで複合単分子膜を形成させ,固体基板上に転写することで,均一な高さをもつ超分子ナノドットパターン薄膜の作製に成功した。ナノドットのサイズ制御と単分子膜作製条件および転写手法との関連性について検討した。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (3件):
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固-気界面一般  ,  有機化合物の薄膜  ,  窒素複素環化合物一般 
物質索引 (2件):
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タイトルに関連する用語 (4件):
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