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J-GLOBAL ID：201102260454825316   整理番号：11A0167905

反応拡散の間に膜厚を制御された相の順次形成の物理的起源:原子モデル化

Physical origin of thickness-controlled sequential phase formation during reactive diffusion: Atomistic modeling

著者 (2件)： PORTAVOCE A. (IM2NP, CNRS, Marseille, FRA) ,  TREGLIA G. (CINAM, CNRS, Marseille, FRA)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 82  号： 20  ページ： 205431.1-205431.12  発行年： 2010年11月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *反応拡散系 ,  *相 ,  *原子モデル ,  *膜厚 ,  動力学 ,  シミュレーション ,  非対称性 ,  放物線 ,  線形性 ,  界面 ,  成長 ,  半無限体 ,  偏析
準シソーラス用語： モンテカルロシミュレーション

分類 (3件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  薄膜一般  (BK14010X) ,  格子理論  (BA08030M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 拡散 ,  膜厚 ,  相 ,  順次形成 ,  物理 ,  起源 ,  原子モデル