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J-GLOBAL ID：201102262571797652   整理番号：11A0109205

走査型プローブ式ブロック共重合体リソグラフィ

Scanning probe block copolymer lithography

著者 (6件)： CHAI Jinan (Northwestern Univ., IL) ,  HUO Fengwei (Northwestern Univ., IL) ,  ZHENG Zijian (Northwestern Univ., IL) ,  GIAM Louise R. (Northwestern Univ., IL) ,  SHIM Wooyoung (Northwestern Univ., IL) ,  MIRKIN Chad A. (Northwestern Univ., IL)
資料名： Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America  (Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America)
巻： 107  号： 47  ページ： 20202-20206  発行年： 2010年11月23日 
JST資料番号： D0387A  ISSN： 0027-8424  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 筆者らは,個々のナノ粒子の成長と位置を,その場で制御可能にする走査型プローブ式ブロック共重合体リソグラフィを開発した。本論文のリソグラフィは,ディップペンナノリソグラフィ(DPN),あるいは,ポリマーペンリソグラフィ(PPL)に基づき,相分離した100nm,あるいは,それ以上の形状の大きさのブロック共重合体インクを下部の基板上に移動させる方法である。プラズマによる金属イオン還元によって,ブロック共重合体形状ごとに単結晶ナノ粒子が効率よく生成できた。DPN,あるいは,PPLは,ナノ結晶の大きさを4.8±0.2nmまで小さく正確に制御できた。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *リソグラフィー ,  *走査 ,  *プローブ ,  インク ,  プラズマ処理 ,  単結晶 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： ディップペンナノリソグラフィー ,  ポリマーペンリソグラフィ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 走査型 ,  プローブ ,  ブロック共重合体リソグラフィ