文献

J-GLOBAL ID：201102263096344008   整理番号：11A1136309

自己集合高分子マスクの調製

Fabrication of Self-Assembled Polymer Mask

著者 (8件)： Deng Shen (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Xu Chen (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Xu Lihua (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Zou Deshu (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Jiang Wenjing (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Dai Tianming (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Li Xiaobo (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing) ,  Shen Guangdi (Beijing Univ. of Technol., Beijing Optoelectronic Technol. Lab., Beijing)
資料名： Gaofenzi Cailiao Kexue yu Gongcheng  (Gaofenzi Cailiao Kexue yu Gongcheng)
巻： 26  号： 1  ページ： 151-154  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2119A  ISSN： 1000-7555  CODEN： GCKGEI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 半導体素子に共通な表面ミクロ構造作製にはプレーナプロセスが最重要技術であり,ミクロ構造作製においては自己集合が最近注目されている技術である。本報では,ポリマブレンドのミクロ相分離と自己集合を基に,ポリスチレン/ポリメタクリル酸メチル(PS/PMMA)ブレンド膜を溶液ブレンドとスピンコーティングにより調製し,この膜から多くのナノ孔が規則的に分布した高分子マスクを開発した。超音波加工時間,スピンコーティング速度,ポリマブレンド溶液濃度などの膜パターンに及ぼす因子を調べた。本マスクを用いた湿式エッチングにより発光ダイオード(LED)表面に蜂の巣状のミクロ構造を作製し,LED出力が平均18%増加するのを認めた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 自己集合 ,  *高分子 ,  マスク ,  半導体素子 ,  微細構造 ,  ポリマブレンド ,  ミクロ相分離 ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  発光ダイオード
準シソーラス用語： ミクロ構造

分類 (1件)： 高分子化学一般  (CG01000B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自己集合 ,  高分子 ,  マスク ,  調製