抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
この論文では,固体と原子分子クラスターとの相互作用の分野における最先端のレビューを紹介した。その分野の紹介とクラスタービームの開発の短い歴史から始まり,クラスタの形成の基本的な物理面とクラスタービーム生成のための最も一般的な方法を概観した。加速クラスターの原子当たりの運動エネルギーが,クラスタ結合(凝集)エネルギーをかなり下回る場合は,ソフトランディングと呼ばれ,堆積によりクラスタの断片化が誘起されない。このソフトランディングにおける特有の現象をまとめた。それらにより,光学と電子工学において,磁気媒質と触媒として,ナノ生物とナノ医学において必要な性質のナノ粒子アレイの形成におけるクラスタービームの使用の道が開けた。運動エネルギーが高いクラスター衝撃で起こる現象に相当な注意を払った。特に,堆積と注入との中間領域の物理を論じた。すなわち表面へのクラスタの僅かな埋込み,あるいはクラスタピン止めとして知られている現象を論じた。より高い衝撃エネルギーでは,クラスタの構造は失われ,衝撃により表面の局所的損傷が起こり,しばしば,クレーターやヒロックが形成された。実験とシミュレーションの両方を考慮し,これらの現象のメカニズムを論じ,隕石衝撃との類似性を示した。次に高フルエンスクラスタービームによる治療下の表面スパッタリングの研究とこの現象を平滑化に使用する方法を説明する既存のモデルも概観した。表面の研磨のクラスタービーム技術の応用例を示した。また,物理スパッタリングを,反応性の加速クラスタの侵食とどの様に複合化できるかを説明した。後者は,ナノスケールでの表面のドライエッチングのための効率的なツールとなることができる。物質中のクラスタ(多成分飛翔体)阻止の特異性とkeV~MeVのエネルギーによる注入下での照射損傷を解析した。クラスタ注入の基本的な面についてを,keVのエネルギーのクラスターイオンビームの応用例の後で説明した。これには,半導体の極浅ドーピングや超薄絶縁層の形成が含まれた。局所的相転移(例えば,グラファイトからダイヤモンド)と共に表面上にナノサイズのヒロックや柱が形成される,MeVのエネルギーのクラスターイオン注入の2~3の例も論じた。最後にクラスタービームの将来の開発を述べた。(翻訳著者抄録)
