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J-GLOBAL ID：201102269870795962   整理番号：11A0292061

ATRPを用いて雲母基板上にポリアクリル酸の直接重合-予備研究

Direct Polymerization of Polyacrylic Acid on Mica Substrates using ATRP-A Preliminary Study

著者 (3件)： BOROZENKO Olga (Univ. Montreal, QC, CAN) ,  SKENE W. G. (Univ. Montreal, QC, CAN) ,  GIASSON Suzanne (Univ. Montreal, QC, CAN)
資料名： Macromolecular Symposia  (Macromolecular Symposia)
巻： 297  ページ： 1-5  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0318C  ISSN： 1022-1360  CODEN： MSYMEC  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 雲母上に電荷をもつ高分子ブラシを直接合成するコンセプトの証明として,雲母上でアクリル酸ナトリウムの重合の予備検討結果とAFMによる絶対的なブラシの高さ測定を報告した。ポリアクリル酸ナトリウムブラシは,雲母上にATRP開始剤を固定し,窒素下,pH9,室温でCuBr,CuBr₂,bipyを用いてアクリル酸ナトリウムの直接重合により生成した。雲母上でアクリル酸ナトリウムは70分以内に95nmの厚いポリアクリル酸ナトリウム膜を生成した。高分子層の絶対厚みはAFMによりステップ高さ法を用いて測定した。類似の重合条件下で,雲母上のアクリル酸ナトリウムの厚みはシリコンウェハ上での57.3nmより厚い高分子層膜を形成した。

シソーラス用語： *ポリアクリル酸 ,  *原子移動ラジカル重合 ,  *雲母 ,  基板 ,  高分子ブラシ ,  高分子膜 ,  厚み測定 ,  原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： ATRP【重合】 ,  *ポリアクリル酸ナトリウム

分類 (1件)： 単独重合  (CG04020S)

物質索引 (1件)： アクリル酸ナトリウム

タイトルに関連する用語 (5件)： ATRP ,  雲母 ,  ポリアクリル酸 ,  重合 ,  研究