文献

J-GLOBAL ID：201102270733803131   整理番号：11A0836778

銅上へのグラフェンの化学蒸着に関する概観

A review of chemical vapour deposition of graphene on copper

著者 (4件)： MATTEVI Cecilia (Imperial Coll., London, GBR) ,  KIM Hokwon (Imperial Coll., London, GBR) ,  CHHOWALLA Manish (Imperial Coll., London, GBR) ,  CHHOWALLA Manish (Rutgers Univ., NJ, USA)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 21  号： 10  ページ： 3324-3334  発行年： 2011年03月14日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅を触媒として利用する銅表面上へのグラフェンの化学蒸着は,高品質で巨大な連続層を形成する方法として有力視されている。特に炭素の銅への溶解性の低さが,炭化水素気体に対する触媒活性とともに銅に特異な触媒機能をもたらしていると考えられる。この堆積機構は銅と炭素間の特異な表面相互作用が関連しており,銅上のグラフェンは単一層に限定される。また銅上のグラフェンは皺や粒界が少なく,光透過率が90%以上で電気抵抗が30Ω/sq程度の優れた光-電子特性を持つグラフェン層を形成することができる。また現在の多層堆積とその移動は問題が多いため,直接堆積による多層グラフェンの調製はグラフェン利用のブレークスルーとなり得る。また現在の銅上のグラフェン成長に対する課題は,スケーラブルで信頼性の高い移動方法の開発である。これらの課題の克服により,グラフェンはITOに取って代る可能性があることを述べた。

シソーラス用語： *銅 ,  *表面 ,  *単一層 ,  *グラファイト ,  *化学蒸着 ,  触媒 ,  炭素 ,  炭化水素 ,  堆積 ,  相互作用 ,  *光透過 ,  *電気抵抗 ,  光電子 ,  移動 ,  *グラフェン

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (3件)： 銅 ,  グラフェン ,  化学蒸着