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J-GLOBAL ID：201102270909666640   整理番号：11A0172148

XeF₂でエッチングされたアルミニウム表面の接着特性の有機自己組織化単分子層の析出による修飾

Modification of the Adhesive Properties of XeF₂-Etched Aluminum Surfaces by Deposition of Organic Self-Assembled Monolayers

著者 (6件)： ROODENKO K. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  SEITZ O. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  GOGTE Y. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  VEYAN J.-F. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  YAN X.-M. (QualComm MEMS Tech., Inc., California, USA) ,  CHABAL Y. J. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114  号： 51  ページ： 22566-22572  発行年： 2010年12月30日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機修飾されたフッ化アルミニウム(AlFx)の合成プロセスと特性化について報告した。犠牲的なSi層によって保護されたアルミニウム表面を使用して,XeF₂ガスによる犠牲的な材料の除去プロセスをその場IRスペクトルによって追跡した。生成したAlFx表面は高度に親水性で,工業的応用の障害となる。XeF₂でエッチングされたフッ化アルミニウム表面がオクタデシルトリクロロシラン(OTS)による修飾によって安定な疎水性表面に転換できた。AlFx上のOTSが緻密な組織化された層を形成し,表面に垂直な方向に対して27°±2°のねじれ角を有することを確認した。このねじれ角はSiO₂表面でのOTSの最適配向よりも高い。これは凹凸を有するAlFx上での分子充填の制約による。グラフトされたOTS層の充填密度が高いために,修飾された表面は105°の接触角を有する良好な疎水性を示した。

シソーラス用語： *アルミニウム ,  *表面改質 ,  フッ化キセノン ,  ドライエッチング ,  *有機フッ素化合物 ,  吸着平衡 ,  *疎水性 ,  表面粗さ ,  分子配向 ,  分子充填 ,  *フッ化アルミニウム ,  *接触角 ,  安定性 ,  経時変化 ,  X線光電子スペクトル ,  結合エネルギー ,  赤外吸収スペクトル ,  金属薄膜 ,  ケイ素 ,  保護膜 ,  層 ,  自己組織化 ,  単分子層
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  犠牲層 ,  SAM【膜】

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (1件)： オクタデシルトリクロロシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： エッチング ,  アルミニウム ,  自己組織化単分子層 ,  析出 ,  修飾