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J-GLOBAL ID:201102271436787255   整理番号:11A1554301

窒化ケイ素球のための化学機械研摩工程の機構

Mechanism of Chemo-mechanical Polishing Process for Silicon Nitride Balls
著者 (3件):
資料名:
巻: 21  号: 10  ページ: 1245-1249  発行年: 2010年 
JST資料番号: C2243A  ISSN: 1004-132X  CODEN: ZJGOE8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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化学機械研摩工程および研削材と作業材料の間の相互作用を調査するために,実験を,4つの異なる研削材を用いて実行した。種々の研削材を用いて研磨球表面の粗度について論じた。作業材料の除去モードを,Si_3N_4球表面の得られたSEM画像を用いても解析した。XRDを用いて,研削材と作業材料間の化学反応の生成をテストした。試験結果は理論的熱力学的解析と一致した。ここでの結果は,CeO_2がSi_3N_4球を研磨することに対して効果的研削材であり,Ra4nmを有する滑面を,化学的機械研摩で得ることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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