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J-GLOBAL ID：201102271545258726   整理番号：11A0437851

TiO2-xターゲットを用いる直流導電管スパッタによって蒸着された透明な伝導性NbドープTiO2膜

Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by direct-current magnetron sputtering using a TiO2-x target

著者 (4件)： SATO Y ,  AKIZUKI H ,  KAMIYAMA T ,  SHIGESATO Y
資料名： THIN SOLID FILMS
巻： 516  号： 17  ページ： 5758-5762  発行年： 2008年 
JST資料番号： O6387A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： TiO2 ,  ターゲット ,  直流 ,  スパッタ ,  蒸着 ,  Nb ,  ドープ